真空清洗爐利用高分子聚合物在300度左右時可熔融，高于300度隔掉空氣可裂解憔化，高于400度在有少量空氣并有真空度的環境中可氧化的特性，先將粘有高分子污物的工件加熱到300度（根據工藝要求擬定），使工件上數量較多的高分子聚合物熔化后流淌到爐膛下部的收集容器內，然后再將爐溫升到400-500度，同時打開真空泵，并通入少量新鮮空氣，使剩余的聚合物氧化，生成的二氧化碳，經水噴淋后通過水環式真空泵抽吸，和水一起排出爐外。

真空清洗爐均采用不銹鋼電熱管真空爐膛內直接加熱，密封部位均采用密封圈，不需水冷卻保護，所以，真空清洗爐加熱功率小，熱效率高，升溫速度快，溫度均勻性好，加熱器檢查維修方便，并且，克服了由于水冷卻導致的爐內溫度均勻性差，局部清洗不好等缺陷。

該設(she)備具有完(wan)整的(de)自(zi)動(dong)化工(gong)(gong)作性能(neng)，只要對程(cheng)序溫度控制儀(yi)輸入擬定的(de)工(gong)(gong)作程(cheng)序，設(she)備即能(neng)進行自(zi)動(dong)化清洗工(gong)(gong)作，中途不用人工(gong)(gong)干預(yu)，并具有缺相(xiang)和斷水或低水壓報(bao)警功能(neng)。

真空清洗(xi)爐適用(yong)于化纖行(xing)業(ye)(ye)生產用(yong)的組件、噴絲(si)板、過濾(lv)芯(xin)等(deng)清潔處理，也適用(yong)于塑料機(ji)械行(xing)業(ye)(ye)的模具，造(zao)粒機(ji)網片，薄膜機(ji)組的模頭，過濾(lv)器等(deng)清潔處理之用(yong)。